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光刻膠“斷供”風波再起 國產替代進程提速
作者 | 愛集微2022-10-26

隨著美國在半導體領域對中國制裁不斷加碼,使得原已開始進入下行周期的半導體行業,更顯得雪上加霜。本月美國發布的出口管制新規較為復雜,大體可概括為3個禁止:禁止向中國出口高性能芯片;禁(jin)止向中(zhong)(zhong)國(guo)出口半導(dao)體制造工藝中(zhong)(zhong)所需的設備和中(zhong)(zhong)間(jian)材料;限制美(mei)國(guo)高級人才到(dao)中(zhong)(zhong)國(guo)半導(dao)體企業就業。

新(xin)規(gui)生效后,美(mei)系(xi)半(ban)(ban)導體設(she)備廠商(shang)的(de)(de)影響(xiang)首(shou)當其沖,高盛分析師Toshiya Hari認為,美(mei)國新(xin)的(de)(de)限(xian)制措施可能使全球半(ban)(ban)導體設(she)備今年(nian)損失60億美(mei)元(yuan)收入,相(xiang)當于(yu)其預(yu)計(ji)銷售(shou)額的(de)(de)9%。美(mei)系(xi)半(ban)(ban)導體龍頭之一Lam Research在最新(xin)預(yu)測中更表示禁(jin)令(ling)將導致明年(nian)至少減少20~25億美(mei)元(yuan)的(de)(de)收入。

更為不利的因(yin)素是(shi),近(jin)日(ri)有消息(xi)稱(cheng)國(guo)內頭部晶(jing)圓廠再次傳(chuan)出美國(guo)杜邦開(kai)始(shi)準備暫停(ting)對(dui)國(guo)內光刻膠供應(ying),這意(yi)味著美國(guo)繼半導(dao)體(ti)設備之后,或將通(tong)過(guo)半導(dao)體(ti)材(cai)料來進一(yi)步限制(zhi)中國(guo)半導(dao)體(ti)產業發展(zhan)。若此消息(xi)成真,中國(guo)半導(dao)體(ti)是(shi)否走到(dao)了至暗時(shi)刻?

01 美系光刻膠斷供沖擊影響幾何?

本次的(de)(de)光(guang)刻(ke)膠斷供傳(chuan)聞(wen)包括(kuo)美國(guo)杜(du)邦(bang)(bang)、德(de)國(guo)默克旗下AZ Electronic。集微網獲悉,默克光(guang)刻(ke)膠對中(zhong)國(guo)斷供屬(shu)于謠(yao)傳(chuan),而(er)杜(du)邦(bang)(bang)涉及停供的(de)(de)光(guang)刻(ke)膠主(zhu)要為ArF光(guang)刻(ke)膠和高端krF,聚焦中(zhong)、高制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)程(cheng),尚未得到(dao)官方確認。如(ru)果存在(zai)供應風險,主(zhu)要影響包括(kuo)14nm以(yi)下制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)程(cheng),18nm以(yi)下DRAM制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)程(cheng),以(yi)及128層以(yi)上NADN制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)程(cheng)等(deng),均是國(guo)內(nei)未來幾(ji)年較大(da)投入的(de)(de)技術方向,如(ru)光(guang)刻(ke)膠供應出現不穩定狀況,將在(zai)一定程(cheng)度(du)上國(guo)內(nei)影響相(xiang)關(guan)廠(chang)商擴產(chan)的(de)(de)進(jin)度(du)和規劃(hua)。

中泰(tai)電子分(fen)析師認(ren)為,盡管半導(dao)(dao)體(ti)材料的制(zhi)裁對行業影響是立竿見影的,但是國(guo)內晶圓廠(chang)此(ci)前應該已經預見并積極備貨,而且目前半導(dao)(dao)體(ti)材料來源與設備相比更多(duo)元化,中國(guo)半導(dao)(dao)體(ti)企(qi)業被半導(dao)(dao)體(ti)材料制(zhi)裁打擊而導(dao)(dao)致突然休(xiu)克的概率非常低。

SEMI數(shu)據顯示,2021年全(quan)球半導(dao)(dao)體(ti)光刻膠(jiao)市場規模達(da)24.71億美元,同(tong)比增(zeng)長(chang)19.49%,其中中國大陸市場依(yi)舊保持著最快的(de)(de)增(zeng)速,達(da)到4.93億美元,同(tong)比增(zeng)長(chang)43.69%。而在材料領域(yu),集微咨詢(xun)(JW insights)發現市場非常集中,日本企業在當前全(quan)球半導(dao)(dao)體(ti)材料供應鏈(lian)中占主導(dao)(dao)地位,在光刻膠(jiao)領域(yu)尤其如此,日本企業JSR及信越化學所(suo)占的(de)(de)份額合(he)計達(da)到9成;在高(gao)分(fen)辨率(lv)的(de)(de)KrF和(he)ArF光刻膠(jiao)領域(yu),則由美國(杜邦)和(he)日本制造(zao)商所(suo)壟斷。

中泰(tai)電子研(yan)究顯示,杜(du)(du)邦(bang)主要產品包括g/i線、KrF(248nm)、ArF(193nm)光刻膠,2020年(nian)杜(du)(du)邦(bang)占全球(qiu)光刻膠市場(chang)份額達(da)17%,其(qi)中KrF光刻膠份額約(yue)11%,ArF光刻膠份額小(xiao)于(yu)10%,低于(yu)日系(xi)龍(long)頭如JSR、TOK。而我國中高端膠如KrF光刻膠國產化率不(bu)及(ji)5%,ArF幾乎空白(bai)。

民生證券分析師認為就(jiu)算杜邦(bang)斷供,但日系廠(chang)商才是光刻膠市場主力(li),補缺(que)口難度不大,短(duan)期內對國內晶(jing)圓廠(chang)的沖擊著實有(you)限。

值得一提的(de)是,有機構認為日系光刻(ke)膠會受(shou)到美(mei)國(guo)出口管(guan)制(zhi)(zhi)條例(EAR)約束(shu),對(dui)UVL和EL名單中的(de)企業供貨(huo)時(shi)必須先取得許可證(zheng),可能存(cun)在申請被否進而存(cun)在斷供的(de)可能。而據(ju)集微網了解,EAR對(dui)先進制(zhi)(zhi)造的(de)管(guan)制(zhi)(zhi)屬于(yu)一般管(guan)制(zhi)(zhi),如果非美(mei)國(guo)生產(chan)的(de)產(chan)品中美(mei)國(guo)技術(shu)含(han)量低(di)于(yu)25%則不受(shou)此規則限制(zhi)(zhi)。日系光刻(ke)膠產(chan)品很多采用(yong)特(te)殊配方,較為容易實現低(di)于(yu)25%美(mei)國(guo)技術(shu)含(han)量的(de)限制(zhi)(zhi)門檻,基本不受(shou)EAR管(guan)制(zhi)(zhi),因(yin)此仍然可以正常供應。

另有行(xing)業分析人士指出(chu),光(guang)刻(ke)膠可替代的(de)資源較(jiao)多(duo),影響應該不像設備那么大(da)。另一(yi)方面,國內晶圓廠制程仍(reng)以28nm及以上成熟工藝節點為主,未來擴產也仍(reng)將保持這一(yi)結構,對光(guang)刻(ke)膠的(de)需求也集中在中低端產品,當前國內光(guang)刻(ke)膠布局正好(hao)能夠(gou)匹配。

但面對(dui)供應鏈風險,國(guo)(guo)內(nei)晶(jing)圓廠(chang)仍(reng)然(ran)一方(fang)面抓緊備貨,一方(fang)面加速(su)驗證、導入國(guo)(guo)產(chan)光刻膠(jiao)。國(guo)(guo)內(nei)一家主要的(de)光刻膠(jiao)研(yan)發(fa)企業高管透露,如果在沒有國(guo)(guo)產(chan)化的(de)一個大環境下,光刻膠(jiao)從開(kai)始研(yan)發(fa)到驗證結束(shu),需要兩到三年的(de)周期,甚至更(geng)長都有可能(neng)。國(guo)(guo)產(chan)化需求下,現(xian)在晶(jing)圓廠(chang)對(dui)國(guo)(guo)產(chan)材料廠(chang)商給(gei)予了(le)(le)更(geng)高的(de)包(bao)容(rong)度和試錯機會,并對(dui)驗證進程每(mei)一個周期都進行了(le)(le)壓縮,只要合格就能(neng)很快上(shang)線,最終產(chan)品驗證可能(neng)幾個月就能(neng)完(wan)成。

經過(guo)國內晶圓廠(chang)(chang)過(guo)去一段(duan)時間持續(xu)積極推(tui)動國產半導體(ti)材料(liao)驗證,各細分材料(liao)領(ling)域均(jun)已涌現一批優秀的國產企業,在(zai)光刻膠(jiao)領(ling)域同樣如此(ci)。危機(ji)(ji)也(ye)是轉機(ji)(ji),雖然(ran)國內廠(chang)(chang)商當前市占率仍然(ran)較小,“斷(duan)供”將驅(qu)動其研發補(bu)齊(qi)短板,進一步加快國產替代進程(cheng)。

02 化危為機,國產光刻膠發展提速

我國(guo)光刻(ke)膠行業發展起步較晚(wan),因此整體技術實(shi)力與(yu)國(guo)外仍有(you)較大差距。目前國(guo)內(nei)的廠(chang)商多以紫外寬譜、G線(xian)、I線(xian)等(deng)低(di)(di)端領域產(chan)品(pin)為主(zhu),處(chu)于低(di)(di)毛(mao)利率(lv)的產(chan)品(pin)區(qu)間,生產(chan)能(neng)力主(zhu)要集中于PCB光刻(ke)膠、TN/STN-LCD光刻(ke)膠等(deng)中低(di)(di)端產(chan)品(pin)(PCB-94%、面(mian)板-93%、半(ban)導體-2%)。高端領域的KrF、ArF、EUV光刻(ke)膠在技術、產(chan)品(pin)、產(chan)能(neng)方面(mian)與(yu)國(guo)外大廠(chang)存在較大差距,行業主(zhu)要依(yi)賴進口。

據(ju)集微(wei)網統(tong)計(ji),國(guo)內(nei)半導體光(guang)刻(ke)膠企業主(zhu)要包括晶瑞電材(蘇州瑞紅)、彤程新(xin)(xin)材(北京科華)、上(shang)海新(xin)(xin)陽、南(nan)大光(guang)電等。國(guo)內(nei)光(guang)刻(ke)膠產品(pin)主(zhu)要集中在g/i線(xian)市場,而KrF和ArF光(guang)刻(ke)膠仍(reng)處于(yu)技術(shu)積累和市場開拓期。不過,國(guo)內(nei)企業已在KrF以上(shang)級別產品(pin)中有所突破。

光刻膠“斷供”風波再起 國產替代進程提速

KrF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)方面(mian),北京科華已(yi)(yi)具備批(pi)量(liang)供貨能力;晶(jing)瑞電材(cai)已(yi)(yi)完(wan)成(cheng)中試(shi);上海新陽已(yi)(yi)通過客戶認證(zheng)(zheng)并取得第一筆訂單。ArF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)方面(mian),四家(jia)廠商均已(yi)(yi)購置(zhi)了ArF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)機用于(yu)產品研發,目前正(zheng)處于(yu)技術開發或客戶驗證(zheng)(zheng)中。未來隨著國(guo)(guo)內光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)企業(ye)不斷(duan)在KrF領(ling)域拓(tuo)寬客戶,并在ArF市場完(wan)成(cheng)技術布(bu)局,國(guo)(guo)產光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)有望(wang)實(shi)現全面(mian)突破。但是整體(ti)(ti)來看,目前國(guo)(guo)產光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)仍以PCB光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)為(wei)主,占比達94%;面(mian)板光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)和(he)(he)半導體(ti)(ti)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)僅(jin)為(wei)3%和(he)(he)2%。而國(guo)(guo)內的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)消費仍高度依賴進口,平均自給率僅(jin)10%左(zuo)右,高端ArF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)則完(wan)全依賴進口。

受益于國(guo)內晶圓廠的擴產(chan)(chan)投產(chan)(chan)驅動光(guang)刻(ke)膠(jiao)市(shi)場需(xu)求快速(su)增長,國(guo)產(chan)(chan)光(guang)刻(ke)膠(jiao)廠商將會進一步(bu)分享晶圓廠擴產(chan)(chan)的“蛋糕”。

為此,在業(ye)內傳出杜邦(bang)光刻(ke)(ke)膠“斷供”風波后,A股光刻(ke)(ke)膠板塊受國產替代因(yin)素影響,反而“漲(zhang)(zhang)聲”一片,周一彤程新材漲(zhang)(zhang)停,華(hua)懋科技、南大(da)光電(dian)、容(rong)大(da)感光等股也紛紛跟漲(zhang)(zhang)。

在目前(qian)已發布(bu)前(qian)三季度業績報告或預告的光(guang)刻膠(jiao)概(gai)念股中,業績表現均十分喜人。

南(nan)大光電預(yu)計(ji)前(qian)(qian)三季(ji)度歸母凈利潤2億元至2.2億元,同(tong)(tong)比(bi)(bi)增(zeng)長61.3%至77.43%;雅克科技目前(qian)(qian)的光刻膠產品主(zhu)要為面板用光刻膠,公(gong)司預(yu)計(ji)前(qian)(qian)三季(ji)凈利潤為4.42億元至4.92億元,同(tong)(tong)比(bi)(bi)上(shang)年(nian)增(zeng)13.28%至26.11%;江化微(wei)預(yu)計(ji)前(qian)(qian)三季(ji)度盈(ying)利7231.11萬(wan)元至8482.65萬(wan)元,同(tong)(tong)比(bi)(bi)上(shang)年(nian)增(zeng)長約(yue)(yue)160%至205%;華特(te)氣體前(qian)(qian)三季(ji)度實現(xian)營(ying)業收入約(yue)(yue)14.03億元,同(tong)(tong)比(bi)(bi)上(shang)升41.01%;實現(xian)歸母凈利潤約(yue)(yue)1.86億元,同(tong)(tong)比(bi)(bi)上(shang)升80.59%。

03 結語

美(mei)國步步收(shou)緊的制裁對國內半(ban)導體(ti)企(qi)業(ye)固然造成了不小(xiao)打擊,但(dan)也逐漸面臨邊(bian)際效(xiao)用遞減(jian)的情況(kuang)。短(duan)期國內相關產業(ye)的陣痛難以避(bi)免,但(dan)長(chang)期看卻為(wei)國產替(ti)代提供了至關重要的市(shi)場空間(jian),半(ban)導體(ti)產業(ye)鏈上下游企(qi)業(ye)通力協作(zuo)更是勢在必行。

如若美系光刻(ke)膠(jiao)向中國(guo)企業供應(ying)(ying)趨緊,將(jiang)刺激(ji)國(guo)內(nei)(nei)晶圓廠加速導入國(guo)產(chan)(chan)光刻(ke)膠(jiao)企業,并隨著(zhu)國(guo)內(nei)(nei)廠商的逐步突(tu)(tu)破,國(guo)產(chan)(chan)替代進程有望加速。盡管(guan)在(zai)相當長一(yi)段時間內(nei)(nei),可以預見高端光刻(ke)膠(jiao)產(chan)(chan)品仍將(jiang)是國(guo)內(nei)(nei)的小(xiao)眾(zhong)需(xu)求,但也不(bu)應(ying)(ying)放棄在(zai)高端產(chan)(chan)品方面的追求和努(nu)力,仍需(xu)在(zai)高制程產(chan)(chan)品上進一(yi)步實現技術突(tu)(tu)破。

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