美國再次向荷蘭施壓，阻撓芯片光(guang)刻(ke)機(ji)生產(chan)商ASML向中國(guo)出口光(guang)刻(ke)機(ji)。這一次還不只(zhi)最(zui)先(xian)進的(de)(de)設(she)備(bei)，還包括了上一代(dai)采用DUV技(ji)術的(de)(de)光(guang)刻(ke)機(ji)，其制(zhi)造能(neng)力最(zui)高(gao)可(ke)以(yi)生產(chan)7nm制(zhi)程的(de)(de)芯片(pian)。而可(ke)以(yi)制(zhi)造5nm及(ji)以(yi)下(xia)制(zhi)程芯片(pian)的(de)(de)EUV光(guang)刻(ke)機(ji)，早在(zai)兩年前(qian)，就(jiu)因(yin)為美國(guo)的(de)(de)施壓而無法進口。
國內(nei)自(zi)主芯片產(chan)業(ye)，剛剛迎來(lai)一個壞消(xiao)息(xi)：
美國再次向(xiang)荷蘭施壓，阻撓芯片(pian)光刻機(ji)生產商(shang)ASML向(xiang)中國出(chu)口(kou)光刻機(ji)。
這一次還不只最先進的設備，還包括了上一代采用DUV技術的光刻機，其制造能力最高可以生產7nm制程的芯片。
而可以制(zhi)造5nm及(ji)以下制(zhi)程芯(xin)片(pian)的(de)EUV光刻機，早在(zai)兩年前，就(jiu)因為(wei)美國的(de)施壓而無法進口。
美國又搞小動作？
消息來自彭博社，據知情人士透露，美國正在游說荷蘭政府，希望全球最大的光刻機制造商ASML，禁止(zhi)向中國出(chu)口(kou)光刻機(ji)。
而這一次涉及的相關技術，還是老款DUV光刻機，只能生產(chan)7nm以上制程(cheng)的芯片。
據悉，美國政府的行動，早在一個多月前，美國商務部副部長唐·格雷夫（Don Graves）訪問荷蘭時就(jiu)已經開始。
在訪問行程中，格雷夫還專門拜訪了阿斯邁爾的總部，并和阿斯邁爾首席執行官彼得·溫寧克 （Peter Wennink）進行會面。
同時還有消息顯示，除了荷蘭，日本政府同樣受到了來自美國的壓力，因為日本尼康同樣掌握(wo)DUV光刻機(ji)制(zhi)造能(neng)力。
針對(dui)以上的(de)消(xiao)息(xi)，美國商務部與荷(he)蘭外(wai)交部均表(biao)(biao)示拒(ju)絕發表(biao)(biao)任何評(ping)論。
同時(shi)涉及此事的ASML和尼康兩家公司，也都沒有做出(chu)實質(zhi)性的回應。
消息曝出之后，阿斯邁爾的(de)美國(guo)存托憑(ping)證跌幅(fu)一度擴大到8.3%，截止到目前已經回落至(zhi)3.87%。
但如(ru)果消息屬實(shi)，這也意味著美國對中(zhong)國芯片產(chan)業的全面圍堵(du)。
畢(bi)竟(jing)具備7nm以下制(zhi)程芯片制(zhi)造(zao)能力(li)的EUV光刻機，早在2020年(nian)初，因(yin)為美(mei)國政府(fu)的壓(ya)力(li)而禁(jin)止出口到中國。
而(er)目前國內目前能夠自主制造的芯片制程(cheng)，還停留在28nm。
至(zhi)于(yu)更先進(jin)的EUV光刻機核心技術(shu)，現在還處(chu)在實驗室的基礎研(yan)發(fa)階段，比(bi)如光刻膠原材料、EUV極(ji)紫(zi)外光源等等，何時能研(yan)發(fa)成熟(shu)投入商(shang)用，現在來(lai)看仍然是一(yi)個巨大的未知數。
也就是說，一旦荷蘭政府同意禁止出口，制程先進的高端芯片且不說，連7nm以上制程的(de)芯(xin)片，包括大部(bu)分車規級(ji)芯(xin)片、以及一些消費類芯(xin)片，都將面臨受(shou)制于人(ren)的(de)命運。
所(suo)以現在(zai)，有一個問(wen)題至關重要：
荷蘭ASML什么態度？
從彭博社曝(pu)出(chu)的消息來看，目前荷蘭(lan)政府尚未同意，對(dui)阿(a)斯邁(mai)爾向中國出(chu)口DUV光刻機有(you)任何(he)額外(wai)限制(zhi)行動。
與此同時，荷蘭首相(xiang)馬(ma)克·呂特(te) （Mark Rutte）不久(jiu)之前也(ye)在公開場合(he)表示，反對改變與中國的貿易關系。
而(er)ASML這一(yi)邊，雖然官方(fang)目前還沒有(you)實質性的回應，但其首席執行官溫寧克也(ye)曾表(biao)明態度：
反對禁止向中國(guo)出口DUV光(guang)刻(ke)機。
理(li)由是DUV光刻機(ji)已經是一項(xiang)“成熟”的芯(xin)片生產(chan)設備。
從(cong)技術獨立性上(shang)，ASML在DUV光刻(ke)機技術上(shang)底氣更足，早在2003年，阿(a)斯邁爾就已(yi)經推出自主研發(fa)的DUV光刻(ke)機，并借此在全球芯片(pian)制(zhi)造產業上(shang)成為巨頭。
而ASML的EUV技術，則與美國和英特爾牽頭成立的EUV LLC聯盟有著(zhu)千絲(si)萬縷的聯(lian)系。
所以(yi)與上次禁止出口EUV光(guang)刻機(ji)不同的(de)(de)是，ASML出口DUV光(guang)刻機(ji)到中國，無需美(mei)國的(de)(de)授權。
版權聲明: 本文內容來源于網絡，該文觀點僅代表作者本人。本站僅提供信息存儲空間服務，不擁有所有權，不承擔相關法律責任。如發現本站有涉嫌抄襲侵權/違法違規的內容，請聯系我們，一經查實，本站將立刻刪除
